高純制氮機主要應用于外延、光刻、清洗和蒸發等工序中，作為置換、干燥、貯存和輸送用氣體。顯像管制造中要求氮氣純度為99.99%以上。在航天技術中，液氫加注系統必須先用高純氮置換，再用高純氦置換。

    高純氮的用途：

用于合成氨、硝酸、氰氨化鈣、過氧化氫等生產。純氮氣用作防止氧化、揮發、易燃物質的保護氣體、燈泡填充氣。液氮主要用作冷源，用于儀器或機件的深度冷凍處理及食品速凍。也用于低溫微粉碎用及電子工業等。主要在集成電路、半導體和電真空器件、彩色顯像管制造中用作保護氣和運載氣，化學氣相淀積時的載氣，液體擴散源的攜帶氣，高溫擴散爐中器件的保護氣，還可用于石油、化工和氮分子激光器的生產中，且可作分析儀器載氣，如標準氣、校正氣、平衡氣及在線儀表標準氣等。純氮用于化工、冶煉及電子工業，用作置換氣、保護氣。高純氮用于標準混合氣制備及電子工業中用作保護氣、置換氣、運載氣及反應氣。用于合成氨，制硝酸，用作物質保護劑、冷凍劑等